ONTO

Onto Innovation Inc.（原名：Nanometrics Incorporated）是一家半导体设备和软件技术公司。该公司为晶圆制造、前端过程控制和高级半导体封装光刻技术提供技术服务。该公司及其全资子公司提供过程控制计量和检查系统，主要用于半导体和其他固态设备的制造以及工业和科学上的应用。其光学关键尺寸（OCD）技术是一种尺寸测量技术，用于确定可直接控制集成电路设备最终性能的半导体晶片上的尺寸。该公司的薄膜计量系统使用各种波长的光谱、高灵敏度的光学器件，软件和技术来测量沉积在硅和其他基板上的薄膜的厚度和均匀度及其化学成分。