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CVD设备
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实时行情|Nasdaq Last Sale

3.800
-0.150
-3.80%
休市 16:00 07/01 EDT
开盘
3.900
昨收
3.950
最高
3.970
最低
3.720
成交量
8.71万
成交额
16.39万
52周最高
6.37
52周最低
3.700
市值
2,557.00万
市盈率(TTM)
4.845
分时
5日
1月
3月
1年
5年
暂无数据
暂无数据
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EPS
实际EPS
预期EPS
0.040.310.580.84
Q1 2021
Q2 2021
Q3 2021
Q4 2021
Q1 2022
机构持股
总机构数: 28
机构持股: 131.66万
持股比例: 19.57%
总股本: 672.89万
类型机构数股数
增持
1
5
建仓
1
1.36万
减持
6
4.38万
平仓
2
432
  • 业绩
  • 资产分布
  • 分红历史
暂无数据
所属板块
工业机械及设备
+0.46%
Machinery, Tools, Heavy Vehicles, Trains & Ships
+0.43%
高管信息
Chairman/Lead Director/Director/Independent Director
Lawrence Waldman
President/Chief Executive Officer/Director
Emmanuel Lakios
Chief Financial Officer/Executive Vice President/Secretary/IR Contact Officer
Thomas Mcneill
Vice President - Operations/General Manager
Kevin Collins
Vice President/Director of Sales/Director of Marketing
Jeffrey Brogan
Vice President
Maxim Shatalov
Independent Director
Robert Brill
Independent Director
Conrad Gunther
Independent Director
Raymond Nielsen
暂无数据
暂无数据
CVV 简况
CVD Equipment Corp从事开发、设计、制造和维修一系列化学气相沉积、气体控制和其他设备和解决方案。该公司的部门包括 CVD/First Nano、SDC 和 CVD 材料。CVD/First Nano 提供化学气相沉积系统,用于航空航天、医疗部件、半导体、发光器件 (LED)、电池纳米材料、碳纳米管、纳米线、太阳能电池和许多其他工业应用领域。SDC 部门为半导体制造工艺、太阳能电池、LED、碳纳米管和纳米线设计和制造超高纯度气体和化学品输送控制系统。CVD 材料部门包括元素和产品组,例如Tantaline和MesoScribe。钽处理是通过化学气相沉积在普通材料表面形成的扩散结合的钽保护层。

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